太阳能电池片等离子体化学气相沉积法(PECVD)中的工艺问题!1,温度对硅片的影响!2,时间对硅片的影响?3,硅烷对硅片的影响?4,氨气对硅片的影响?5,RF功率与脉冲对硅片的影响?如果硅片发白怎
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/07/05 19:38:12
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1,温度对硅片的影响!
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4,氨气对硅片的影响?
5,RF功率与脉冲对硅片的影响?
如果硅片发白怎么办,发红怎么办?
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四、去磷硅玻璃 该工艺用于太阳能电池片生产制造过程中,通过化学腐蚀法也PECVD即等离子增强型化学气相沉积.它的技术原理是利用低温等离子体作能量源,
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谁知道等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)英文全称是什么?
磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别?我就知道一个是物理气相沉积,一个是化学气相沉积,其他的都不是很了解,他们的具体原理上的区别?
有没有GS400-2型等离子体增强化学气相沉积设备?什么地方产的?价格是多少?
物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别
等离子体辅助化学气相沉积pevcd基片上加负偏压为什么效果不好,磁控设备用都可以.为什么.哪位大侠帮个忙我只加了氩气,辉光就不正常,等离子区向下,不加偏压,基片接地才能正常起辉
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解释一下化学气相沉积法制备纳米材料
气相沉积法的应用
化学气相沉积法由CH4制金刚石薄膜的反应原理化学气相沉积法由CH4制金刚石薄膜,其反应原理为什么?要化学方程式
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如果用化学气相沉积法在硅片上镀铝,请问最大厚度能够达到多少?
请问CVD(化学气相沉积)的原理及应用?请问CVD(化学气相沉积)镀膜的原理及应用?
化学气相沉积和热蒸发法的区别是什么?看文献里制备ZnO纳米线,不管是热蒸发还是CVD,都是整一个水平管式炉,陶瓷舟里一边放前躯体一边放Si片,最终都是在Si片上长出ZnO纳米线.难道二者是同一
CVD(化学气相沉积)的原理及应用是什么
以下不是物理气相沉积法(PVD)所用到的技术是?
物理气相沉积涂覆工艺是什么
物理气相沉积法制膜包括哪些基本过程